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プロファイル

氏名・所属

宮崎　誠一■（みやざき　せいいち）
miyazaki

sxsys.hiroshima-u.ac.jp

■広島大学大学院　先端物質科学研究科
■量子物質科学専攻
■教授

略歴

1986.4.1	広島大学工学部助手
1992.4.1	広島大学工学部　助教授 Erlangen-Nuerberg 大学（文部省長期在外研究員:1994年4月5日－1995年2月2日）
2001.4.1	広島大学大学院先端物質科学研究科　助教授
2002.4.1	広島大学大学院先端物質科学研究科　教授

所属学協会

応用物理学会、電子情報通信学会、日本表面科学会、Materials Research Society

世界水準の成果

極薄ゲート絶縁膜/シリコンへテロ構造におけるエネルギバンドアライメント分析
および高感度欠陥密度計測
（招待講演: 28th Conf. on Phys. and Chem. of Semicond. Interfaces、他5件）
シリコン量子ドットの自己組織化形成とメモリデバイス応用
(招待講演: 2002 Intern. Conf. on Polycryst. Semicond.、他3件)

先駆的な研究成果

微結晶シリコン系薄膜堆積過程のその場観測
（招待講演: 2002 Spring Meetings of Mat. Res. Soc. 、他１件）

産官学連携

日本学術振興会、産学協力研究委員会:
■薄膜第131委員会委員（企画委員: 庶務）
■半導体界面制御技術第154委員会委員（企画委員）
■プラズマ材料科学第153委員会委員

主な発表論文名

1.	S. Miyazaki, "Characterization of High-k Gate Dielectric/Silicon Interfaces", Appl. Surf. Sci., Vol. 190/1-4, 2002, pp.66-74.
2.	S. Miyazaki, M. Narasaki, M. Ogasawara and M. Hirose, "Chemical and electronic structure of ultrathin zirconium oxide films on silicon as determined by photoelectron spectroscopy", Solid State Electronics, Vol. 16, 2002, pp.1679-1685.
3.	A. Kohno, H. Murakami, M. Ikeda, S. Miyazaki and M. Hirose, "Memory Operation of Silicon Quantum-Dot Floating Gate Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors", Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 40, No. 7B, 2001, pp.L721-L723.
4.	S. Miyazaki, "Photoemission Technical Meeting of Energy Band Alignments and Gap State Density Distributions for High-k Gate Dielectrics", J. Vac. Sci. Technol., Vol. B19, No. 6, 2001, pp.2212-2216.
5.	S. Miyazaki, Y. Hamamoto, E. Yoshida, M. Ikeda and M. Hirose, "Control of Self-Assembling Formation of Nanometer Silicon Dots by Low Pressure Chemical Vapor Deposition", Thin Solid Films, Vol. 369, 2000, pp.55-59.

研究室ページ

http://home.hiroshima-u.ac.jp/semicon/

個人ページ

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